SiN субстратлары

Кыска тасвирлау:

Semicera тарафыннан SiN субстратлары ярымүткәргеч җитештерү һәм микроэлектроника буенча алдынгы кушымталар өчен эшләнгән. Гадәттән тыш җылылык тотрыклылыгы, югары чисталыгы, ныклыгы белән билгеле булган бу субстратлар югары җитештерүчән электрон компонентларны һәм оптик җайланмаларны тәэмин итү өчен идеаль. Semicera's SiN субстратлары нечкә фильм кушымталары өчен ышанычлы нигез бирә, таләпчән мохиттә җайланманың эшләвен көчәйтә.


Продукциянең детальләре

Продукция тэглары

Semicera's SiN субстратлары бүгенге ярымүткәргеч сәнәгатенең катгый стандартларына туры китереп эшләнгән, монда ышанычлылык, җылылык тотрыклылыгы, материаль чисталык кирәк. Гадәттән тыш кием каршылыгы, югары җылылык тотрыклылыгы, өстен чисталык өчен җитештерелгән, Semicera's SiN Substrates төрле таләпләр буенча ышанычлы чишелеш булып хезмәт итә. Бу субстратлар алдынгы ярымүткәргеч эшкәртүдә төгәл эшне хуплый, аларны микроэлектроника һәм югары җитештерүчән җайланма кушымталары өчен идеаль итә.

SiN субстратларының төп үзенчәлекләре
Semicera's SiN субстратлары югары температура шартларында искиткеч ныклыгы һәм ныклыгы белән аерылып торалар. Аларның гадәттән тыш киемгә каршы торуы һәм югары җылылык тотрыклылыгы аларга җитештерү деградациясеннән катлаулы җитештерү процессларын кичерергә мөмкинлек бирә. Бу субстратларның югары чисталыгы пычрану куркынычын киметә, критик нечкә пленка кушымталары өчен тотрыклы һәм чиста нигезне тәэмин итә. Бу SiN субстратларын ышанычлы һәм эзлекле чыгару өчен югары сыйфатлы материал таләп иткән мохиттә өстенлекле сайлау ясый.

Ярымүткәргеч индустриясендә кушымталар
Ярымүткәргеч индустриясендә SiN субстратлары җитештерү этапларында бик мөһим. Алар төрле материалларга булышу һәм изоляцияләүдә мөһим роль уйныйларСи Вафер, SOI Wafer, һәмSiC субстраттехнологияләр. СемицераSiN субстратларыҗайланманың тотрыклы эшләвенә өлеш кертү, аеруча төп катлам яки күп катламлы структураларда изоляцион катлам буларак кулланылганда. Моннан тыш, SiN субстратлары югары сыйфатлы мөмкинлек бирәЭпи-Ваферэпитаксиаль процесслар өчен ышанычлы, тотрыклы өслек биреп, микроэлектроника һәм оптик компонентлар кебек төгәл катлам таләп иткән кушымталар өчен бәяләп бетергесез.

Emergсеп килүче материаль тест һәм үсеш өчен күпкырлылык
Semicera's SiN субстратлары шулай ук ​​Gallium Oxide Ga2O3 һәм AlN Wafer кебек яңа материалларны сынау һәм үстерү өчен күпкырлы. Бу субстратлар югары көчле һәм югары ешлыклы җайланмалар киләчәге өчен бик мөһим булган бу барлыкка килүче материалларның эш характеристикаларын, тотрыклылыгын, яраклашуын бәяләү өчен ышанычлы сынау мәйданчыгы тәкъдим итә. Моннан тыш, Semicera's SiN субстратлары Кассета системалары белән туры килә, автоматлаштырылган җитештерү линияләре аша куркынычсыз эшкәртү һәм транспорт мөмкинлеген бирә, шулай итеп массакүләм җитештерү мохитендә эффективлыкны һәм эзлеклелекне тәэмин итә.

Highгары температуралы мохиттә, алдынгы фәнни-тикшеренү эшендә, яисә киләсе буын ярымүткәргеч материаллар җитештерүдә, Semicera's SiN Substrates нык ышанычлылык һәм җайлашу тәэмин итә. Аларның тәэсирле кием каршылыгы, җылылык тотрыклылыгы, чисталыгы белән, Semicera's SiN субстратлары җитештерүчәнлекне оптимальләштерергә һәм ярымүткәргеч җитештерүнең төрле этапларында сыйфатны сакларга омтылган җитештерүчеләр өчен алыштыргысыз сайлау.

Семицера Эш урыны
Семицера эш урыны 2
Equipmentиһазлау машинасы
CNN эшкәртү, химик чистарту, CVD каплау
Семицера склад йорты
Безнең хезмәт

  • Алдагы:
  • Киләсе: