Кремний субстрат

Кыска тасвирлау:

Семицера кремний субстратлары электроника һәм ярымүткәргеч җитештерүдә югары җитештерүчән кушымталар өчен төгәл эшләнгән. Гадәттән тыш чисталык һәм бердәмлек белән бу субстратлар алдынгы технологик процессларга ярдәм итәр өчен эшләнгән. Semicera сезнең иң таләпчән проектларыгыз өчен эзлекле сыйфат һәм ышанычлылык тәэмин итә.


Продукциянең детальләре

Продукция тэглары

Семицера кремний субстратлары ярымүткәргеч сәнәгатенең катгый таләпләрен канәгатьләндерү өчен эшләнгән, чагыштыргысыз сыйфат һәм төгәллек тәкъдим итә. Бу субстратлар төрле кушымталар өчен ышанычлы нигез бирә, интеграль схемалардан алып фотоволтаик күзәнәкләргә кадәр, оптималь эшне һәм озын гомерне тәэмин итә.

Семицера кремний субстратларының югары чисталыгы минималь җитешсезлекләрне һәм югары электр характеристикаларын тәэмин итә, алар югары эффектив электрон компонентлар җитештерү өчен бик мөһим. Бу чисталык дәрәҗәсе энергия югалтуын киметергә һәм ярымүткәргеч җайланмаларның гомуми эффективлыгын күтәрергә ярдәм итә.

Semicera заманча җитештерү техникасын куллана, кремний субстратларын гаҗәеп бердәмлек һәм яссылык белән җитештерү. Бу төгәллек ярымүткәргеч эшкәртүдә эзлекле нәтиҗәләргә ирешү өчен бик кирәк, монда хәтта кечкенә вариация дә җайланманың эшенә һәм уңышына тәэсир итә ала.

Төрле зурлыкларда һәм спецификацияләрдә бар, Семицера Кремний Субстратлары сәнәгать ихтыяҗларының киң ассортиментын канәгатьләндерә. Сез заманча микропроцессорлар яки кояш панельләрен үстерәсезме, бу субстратлар сезнең конкрет кушымтагыз өчен кирәкле сыгылучылык һәм ышанычлылык тәэмин итә.

Семицера ярымүткәргеч индустриясендә инновацияләрне һәм эффективлыкны тәэмин итүгә багышланган. Сыйфатлы кремний субстратлары белән тәэмин итеп, без җитештерүчеләргә базар чикләренең үсеш таләпләренә туры килгән продуктлар китереп, технология чикләрен куярга мөмкинлек бирәбез. Киләсе буын электрон һәм фотоволтаик чишелешләр өчен Семицерага ышаныгыз.

Предметлар

Producитештерү

Тикшеренү

Думи

Бәллүр параметрлар

Политип

4H

Faceир өстендә ориентация хата

<11-20> 4 ± 0,15 °

Электр параметрлары

Допант

азот

Каршылык

0.015-0.025ohm · см

Механик параметрлар

Диаметр

150,0 ± 0,2 мм

Калынлык

350 ± 25 мм

Беренчел яссы юнәлеш

[1-100] ± 5 °

Беренчел яссы озынлык

47,5 ± 1,5 мм

Икенче фатир

Беркем дә юк

TTV

≤5 мм

≤10 мм

≤15 мм

ЛТВ

≤3 μm (5 мм * 5 мм)

≤5 μm (5 мм * 5 мм)

≤10 μm (5 мм * 5 мм)

Bowәя

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Сугыш

≤35 мм

≤45 μm

≤55 мм

Фронт (Si-face) тупаслыгы (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

Структурасы

Микропип тыгызлыгы

<1 ea / cm2

<10 ea / cm2

<15 ea / cm2

Металл пычраклары

≤5E10атом / см2

NA

BPD

001500 ea / cm2

0003000 ea / см2

NA

TSD

00500 ea / cm2

0001000 ea / cm2

NA

Алгы сыйфат

Фронт

Si

Faceир өсте бетү

Si-face CMP

Кисәкчәләр

≤60ea / wafer (size≥0.3μm)

NA

Сызулар

≤5ea / мм. Кумулятив озынлык ≤Диаметр

Кумулятив озынлык≤2 * Диаметр

NA

Алсу кабыгы / чокырлар / таплар / стриацияләр / ярыклар / пычрану

Беркем дә юк

NA

Кыр чиплары / индекслар / сыну / алты тәлинкәләр

Беркем дә юк

Политип өлкәләре

Беркем дә юк

Кумулятив мәйдан ≤20%

Кумулятив мәйдан ≤30%

Алгы лазер маркировкасы

Беркем дә юк

Арткы сыйфат

Артка тәмамлау

C-йөзле CMP

Сызулар

≤5ea / мм, Кумулятив озынлык≤2 * Диаметр

NA

Арткы җитешсезлекләр (кыр чиплары / индекс)

Беркем дә юк

Арткы тупаслык

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

Арткы лазер маркировкасы

1 мм (өске кырдан)

Кыр

Кыр

Чамфер

Пакетлау

Пакетлау

Эпи вакуум упаковка белән әзер

Күп ваферлы кассета төрү

* Искәрмәләр NA "NA" бернинди сорау да әйтелмәгән әйберләр SEMI-STD турында булырга мөмкин.

tech_1_2_size
SiC вафиннары

  • Алдагы:
  • Киләсе: