Семицераның Кремний Карбид Думми Ваферы бүгенге югары төгәл ярымүткәргеч индустриясе таләпләрен канәгатьләндерү өчен эшләнгән. Гадәттән тыш ныклыгы, югары җылылык тотрыклылыгы, өстен чисталыгы белән билгелеваферярымүткәргеч җитештерүдә сынау, калибрлау, сыйфатны тикшерү өчен бик кирәк. Семицераның Кремний Карбид Думми Ваферы тиңсез киемгә каршы торуны тәэмин итә, ул деградациясез каты куллануга каршы тора алуын тәэмин итә, аны R&D һәм җитештерү мохите өчен идеаль итә.
Төрле кушымталарга булышу өчен эшләнгән, Кремний Карбид Думми Вафер процессларда еш кулланылаСи Вафер, SiC субстрат, SOI Wafer, SiN субстрат, һәмЭпи-Вафертехнологияләр. Аның искиткеч җылылык үткәрүчәнлеге һәм структур бөтенлеге аны югары температуралы эшкәртү һәм эшкәртү өчен искиткеч сайлау ясый, алар алдынгы электрон компонентлар һәм приборлар җитештерүдә киң таралган. Өстәвенә, вафинның югары чисталыгы пычрану куркынычын киметә, сизгер ярымүткәргеч материалларның сыйфатын саклый.
Ярымүткәргеч индустриясендә Кремний Карбид Думми Вафер яңа материал сынау өчен ышанычлы белешмә вафер булып хезмәт итә, шул исәптән Галлий Оксиды Ga2O3 һәм AlN Wafer. Бу барлыкка килгән материаллар төрле шартларда тотрыклылыгын һәм эшләвен тәэмин итү өчен җентекләп анализлау һәм сынауны таләп итәләр. Semicera-ның чүпрәк вафасын кулланып, җитештерүчеләр тотрыклы платформага ирешәләр, эш эзлеклелеген саклыйлар, югары буын, RF һәм югары ешлыклы кушымталар өчен киләсе буын материалларын эшкәртүдә булышалар.
Тармаклар буенча кушымталар
• Ярымүткәргеч җитештерү
SiC Dummy Wafers ярымүткәргеч җитештерүдә аеруча җитештерүнең башлангыч этапларында бик мөһим. Алар саклагыч киртә булып хезмәт итә, кремний вафиннарын потенциаль зыяннан саклый һәм процесс төгәллеген тәэмин итә.
•Сыйфатны тикшерү һәм тест
Сыйфатны тикшерүдә, SiC Dummy Wafers тапшыруны тикшерү һәм процесс формаларын бәяләү өчен бик мөһим. Алар кино калынлыгы, басымга каршы тору, чагылдыру индексы кебек параметрларны төгәл үлчәү мөмкинлеген бирә, җитештерү процессларын тикшерүгә ярдәм итә.
•Литография һәм үрнәк тикшерү
Литографиядә бу ваферлар үрнәк үлчәмен үлчәү һәм кимчелекләрне тикшерү өчен эталон булып хезмәт итәләр. Аларның төгәллеге һәм ышанычлылыгы ярымүткәргеч җайланмасы функциясе өчен бик кирәкле геометрик төгәллеккә ирешергә ярдәм итә.
•Тикшеренү һәм үсеш
R&D мохитендә SiC Dummy Wafersның сыгылмасы һәм ныклыгы киң экспериментны хуплый. Аларның каты сынау шартларын кичерү сәләте аларны яңа ярымүткәргеч технологияләрен үстерү өчен бәяләп бетергесез итә.
