Кремний карбид капланган графит вафер ташучылар

Кыска тасвирлау:

Ярымүткәргечнең кремний карбид капланган графит вафер ташучылары вафер белән эш итү өчен гаҗәеп көч һәм җылылык тотрыклылыгын тәкъдим итәләр. Ярымүткәргеч кушымталарда ныклыкны һәм эффективлыкны тәэмин итеп, алдынгы SiC каплау технологиясе булган югары җитештерүчән йөртүчеләр өчен Semicera-ны сайлагыз.


Продукциянең детальләре

Продукция тэглары

Тасвирлау

SiC каплавы булган Semicorex Wafer ташучылары җылылык тотрыклылыгын һәм үткәрүчәнлеген тәэмин итәләр, CVD процесслары вакытында бердәм җылылык таратуны тәэмин итәләр, югары сыйфатлы нечкә пленка һәм каплау үзенчәлекләре өчен бик мөһим.

Төп үзенчәлекләр:

1. Танылган җылылык тотрыклылыгы һәм үткәрүчәнлегеБезнең SiC белән капланган вафер йөртүчеләр тотрыклы һәм эзлекле температураны саклап калалар, CVD процесслары өчен бик мөһим. Бу бердәм җылылык таратуны тәэмин итә, өстен нечкә пленка һәм каплау сыйфаты китерә.

2. Төгәл җитештерүEachәрбер вафер ташучы стандартларга туры китереп җитештерелә, бердәм калынлыкны һәм өслекнең тигезлеген тәэмин итә. Бу төгәллек берничә вафер аша эзлекле чүпләү ставкаларына һәм кино үзлекләренә ирешү өчен, җитештерү сыйфатын күтәрү өчен бик мөһим.

3. Начарлык киртәсеSiC каплавы үтеп керерлек киртә булып эшли, пычракларның вагонга таралуына комачаулый. Бу пычрату куркынычын минимальләштерә, бу югары чисталык ярымүткәргеч җайланмалар җитештерү өчен бик мөһим.

4. Тотрыклылык һәм чыгым эффективлыгыНык конструкция һәм SiC капламы вафер йөртүчеләрнең ныклыгын арттыра, сенсор алмаштыру ешлыгын киметә. Бу ярымүткәргеч җитештерү операцияләренең эффективлыгын арттырып, хезмәт күрсәтү чыгымнарының түбән булуына һәм минималь эш вакытының минимумына китерә.

5. Көйләү вариантларыSiC каплавы булган ярыморекслы вафер ташучылар конкрет процесс таләпләренә туры китереп көйләнергә мөмкин, шул исәптән зурлыгы, формасы һәм каплау калынлыгы. Бу сыгылучылык төрле ярымүткәргеч эшкәртү процессларының уникаль таләпләренә туры килү өчен, сенсорны оптимальләштерергә мөмкинлек бирә. Хосусыйлаштыру вариантлары махсус кушымталар өчен эшләнгән сусептор конструкцияләрен эшләргә мөмкинлек бирә, мәсәлән, зур күләмле җитештерү яки тикшеренүләр һәм эшләнмәләр, конкрет куллану очраклары өчен оптималь эшне тәэмин итү.

Кушымталар:

SiC Coating белән Semicera Wafer ташучылары идеаль яктан бик уңайлы:

• Ярымүткәргеч материалларның эпитаксиаль үсеше

• Химик парларны чүпләү (CVD) процесслары

• qualityгары сыйфатлы ярымүткәргеч ваферлар җитештерү

• Ярымүткәргеч җитештерүнең алдынгы кушымталары

Техник үзенчәлекләр :

微 信 截图 _20240wert729144258
Семицера Эш урыны
Семицера эш урыны 2
Equipmentиһазлау машинасы
CNN эшкәртү, химик чистарту, CVD каплау
Семицера склад йорты
Безнең хезмәт

  • Алдагы:
  • Киләсе: