Баррель өчен Кремний Карбид каплавы белән графит Суссепторлары

Кыска тасвирлау:

Семицера төрле эпитакси реакторлар өчен эшләнгән сизгерлек һәм графит компонентларының киң спектрын тәкъдим итә.

Сәнәгатьнең алдынгы ОЭМнары белән стратегик партнерлык, киң материаллар экспертизасы, алдынгы җитештерү мөмкинлекләре аша, Semicera сезнең заявкаларның конкрет таләпләренә туры китереп эшләнгән конструкцияләр китерә. Безнең өстенлеккә омтылуыбыз сезнең эпитакси реактор ихтыяҗлары өчен оптималь карарлар алуыгызны тәэмин итә.

 


Продукциянең детальләре

Продукция тэглары

Тасвирлау

Безнең компания графит, керамика һәм башка материаллар өстендә CVD ысулы белән SiC каплау процессы хезмәтләрен күрсәтә, шулай итеп углерод һәм кремний булган махсус газлар югары температурада реакция ясыйлар, югары чисталык SiC молекулалары, капланган материаллар өслегендә урнашкан молекулалар, СИС саклагыч катламын формалаштыру.

SiC индуктивлык кәтүкләре1
SiC индуктивлык кәтүкләре2

Төп үзенчәлекләр

1 .Бары чисталык SiC капланган графит

2. supгары җылылыкка каршы тору һәм җылылык бердәмлеге

3. Нечкә SiC кристалл шома өслек белән капланган

4. Химик чистартуга каршы ныклык

CVD-SIC каплауның төп үзенчәлекләре

SiC-CVD үзенчәлекләре
Бәллүр структурасы FCC β фаза
Тыгызлыгы г / см ³ 3.21
Каты Викерс каты 2500
Ашлык күләме μm 2 ~ 10
Химик чисталык % 99.99995
Atылылык сыйдырышлыгы J · кг-1 · К-1 640
Сублимация температурасы 2700
Флексур көч MPa (ТР 4 балл) 415
Яшь модуль Gpa (4pt бөкләнү, 1300 ℃) 430
Rылылык киңәюе (CTE) 10-6К-1 4.5
Rылылык үткәрүчәнлеге (W / mK) 300
图片 3
图片 1
图片 2
图片 4
图片 5
Семицера Эш урыны
Семицера эш урыны 2
Equipmentиһазлау машинасы
CNN эшкәртү, химик чистарту, CVD каплау
Безнең хезмәт

  • Алдагы:
  • Киләсе: