Металл-органик химик пар парламенты (MOCVD) - ярымүткәргеч индустриясендә мөһим процесс, анда югары сыйфатлы нечкә фильмнар субстратларга салынган. MOCVD процессының төп компоненты - сенсор, җитештерелгән фильмнарның бердәмлеген һәм сыйфатын тәэмин итүдә мөһим роль уйнаучы мөһим элемент.
Нәрсә ул? Суссептор - MOCVD процессында нечкә фильмнар салынган субстратны җылыту өчен кулланылган махсус компонент. Ул электромагнит энергиясен үзләштерү, аны җылылыкка әйләндерү һәм бу җылылыкны субстрат аша бертөрле тарату кебек күп функцияләргә хезмәт итә. Бу бердәм җылыту төгәл калынлыгы һәм составы булган бертөрле фильмнар үсеше өчен бик кирәк.
Саклаучыларның төрләре:
1. Графит сусепторлары: гадәттә саклагыч катлам белән капланганкремний карбид (SiC), графит сизгерләре югары җылылык үткәрүчәнлеге һәм тотрыклылыгы белән билгеле. .Әр сүзнеңSiC каплауюгары температурада коррозиягә һәм деградациягә каршы торучы каты, саклагыч өслек бирә.
2. Кремний Карбид (SiC) Суссепторлары: Болар тулысынча SiCдан ясалган, искиткеч җылылык тотрыклылыгын һәм тузарга һәм каршы торуны тәкъдим итә.SiC сусепторларыаеруча югары температуралы процесслар һәм коррозив мохит өчен яраклы.
НичекШикләнүчеләрMOCVDда эш:
MOCVD процессында прекурсорлар реактор палатасына кертелә, алар череп бетәләр һәм субстратта нечкә пленка ясыйлар. Субсептор субстратның бертөрле җылытылуын тәэмин итеп, мөһим роль уйный, бу бөтен субстрат өслегендә эзлекле кино үзлекләренә ирешү өчен бик мөһим. Саклаучы материал һәм дизайн температура диапазоны һәм химик яраклашу кебек чүпләү процессының конкрет таләпләренә туры китереп сайланган.
Куллануның өстенлекләреQualityгары сыйфатлы шикләнүчеләр:
• Фильмның сыйфатын арттыру: Бердәм җылылык таратуны тәэмин итеп, сенсорлар ярымүткәргеч җайланмалары эшләве өчен мөһим булган калынлык һәм композиция белән фильмнарга ирешергә булышалар.
• Процесс эффективлыгын арттыру: qualityгары сыйфатлы сусепторлар җитешсезлекләр ихтималын киметеп һәм кулланыла торган фильмнар җитештерүчәнлеген арттырып, MOCVD процессының гомуми эффективлыгын яхшырта.
• Озын гомер һәм ышанычлылык: SiC кебек чыдам материаллардан ясалган шикләнүчеләр озак вакытлы ышанычлылыкны һәм хезмәт күрсәтү чыгымнарын киметүне тәэмин итәләр.
Йомгаклау. Дөрес сизгер материалны һәм дизайнны сайлап, ярымүткәргеч җитештерүчеләр үз процессларын оптимальләштерә алалар, нәтиҗәдә җайланманың яхшырак эшләве һәм җитештерү чыгымнары кимүе. Performanceгары җитештерүчән электрон җайланмаларга сорау арта барган саен, югары сыйфатлы MOCVD susc мөһимлеге
Пост вакыты: 12-2024 август