Семицераның Aixtron G5 өчен 6 '' Wafer Carrier Aixtron G5 системаларында эпитаксиаль үсеш процессларының таләпләрен канәгатьләндерү өчен эшләнгән. Highгары сыйфатлы графит белән төзелгән, бувафер ташучывакытында тотрыклылыкны һәм бердәмлекне тәэмин итәCVDһәмMOCVD процесслары, эпи реакторында төгәл чүпләү мөмкинлеген бирә.
А беләнкремний карбид керамикасыкаплау, Aixtron G5 өчен 6 '' Wafer Carrier көчәйтелгән ныклык һәм җылылык каршылыгы тәкъдим итә, аны эпитаксиаль үсештә югары температурада куллану өчен идеаль итә. Бу продукт эффектив булышу өчен эшләнгәнваферярымүткәргеч җитештерүдә эшне максимальләштерү.
Семицерада без ярымүткәргеч индустриясе өчен иң югары дәрәҗәдәге чишелешләр белән тәэмин итүгә игътибар итәбез. Безнең вафер йөртүчеләр ышанычлылык өчен төзелгән, Aixtron G5 системаларында һәм башкаларда шома эшләүне тәэмин итәCVD эпитаксыреакторлар. Сез кремний карбид яки башка материаллар белән эшлисезме, бу вафер ташучы алдынгы ярымүткәргеч җитештерү өчен кирәкле төгәллекне һәм эзлеклелекне тәэмин итә.
Төп үзенчәлекләр:
• Aixtron G5 системалары һәм башка CVD MOCVD реакторлары өчен оптимальләштерелгән.
• Күчерелгән ныклык өчен кремний карбид керамик каплавы белән югары сыйфатлы графит сусепторы.
Төгәллек һәм җылылык тотрыклылыгын таләп итүче эпитаксиаль үсеш процесслары өчен идеаль.
• Катлаулы ярымүткәргеч мохиттә ышанычлы вафин эшкәртү.
Semicera заманча чишелешләр белән тәэмин итүгә багышланган, һәр 6 '' Wafer Carrier сезнең эпитакси ихтыяҗларыгыз өчен иң югары стандартларга туры килүен тәэмин итә.